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化學(xué)研磨拋光和機(jī)械研磨拋光方法區(qū)別

   化學(xué)研磨拋光和機(jī)械研磨拋光方法的區(qū)別
   1、化學(xué)研磨與機(jī)械研磨有本質(zhì)上的不同

   化學(xué)研磨是將被研磨面上的微小凸部與凹部相比較的情況下使其凸部優(yōu)先溶解,改善金屬表面粗糙度,獲得平滑光亮表面的過程。
   機(jī)械研磨是將被研磨面的凸部用切削,磨耗或者塑性變形等方式除去,獲得平滑光亮表面的過程。
   兩種研磨方式對(duì)金屬表面有不同的影響,金屬表面的許多性質(zhì)被改變,所以化學(xué)研磨與機(jī)械研磨有本質(zhì)上的不同。
   由于機(jī)械拋光的局限性,使不銹鋼等金屬工件不能發(fā)揮其應(yīng)有的功能,對(duì)這些問題難于解決,在20世紀(jì)80年代出現(xiàn)了不銹鋼電解化學(xué)研磨拋光技術(shù),一定程度上解決了機(jī)械拋光難于解決的問題,優(yōu)勢明顯。

干式環(huán)保研磨拋光機(jī).png

干式研磨拋光機(jī)

   2、化學(xué)研磨與電解研磨的比較
   化學(xué)研磨拋光:將金屬浸漬在各種成分組成的特殊化學(xué)溶液中,靠化學(xué)能量自然溶解金屬表面,獲得平滑光亮的表面。
   電解化學(xué)研磨拋光:將金屬浸漬在各種成分組成的特殊化學(xué)溶液中,靠電流能量陽極溶解金屬表面,獲得平滑光亮的表面。
化學(xué)研磨僅僅是浸漬作業(yè),操作簡單;而電解研磨拋光需要大容量直流電,還要合理設(shè)置電流對(duì)極,精確控制電流電壓,操作工藝復(fù)雜,質(zhì)量控制困難,有些特殊工件還不能處理。人們一直期待著更佳完善的研磨方法出現(xiàn),雖然這期間出現(xiàn)了一些純化學(xué)研磨拋光技術(shù),但是與電解研磨方式相比,滿足其光澤環(huán)保以及研磨效果等重要技術(shù)指標(biāo)的產(chǎn)品一直沒有出現(xiàn)。

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